Nikon ra mắt thiết bị đo Litho Booster 1000 vào năm 2027, tối ưu độ chính xác cho sản xuất chip

Theo tin từ IT ngày 3 tháng 8, Nikon thông báo vào ngày 30 tháng 7 rằng hãng sẽ ra mắt thiết bị sản xuất bán dẫn mới mang tên Litho Booster 1000 vào cuối tháng 1 năm 2027. So với các dòng máy hiện có, thiết bị này đạt mức cải thiện khoảng 35% về độ chính xác đo lường và 10% về lưu lượng xử lý wafer.

Alignment station (trạm căn chỉnh) là thiết bị đo lường có thể đặt cạnh máy quang khắc (lithography system). Thiết bị này cho phép đo lường độ biến dạng và độ lệch của wafer với độ chính xác cao mà không làm giảm năng suất, đồng thời chuyển tiếp các giá trị hiệu chỉnh thu được tới máy quang khắc, từ đó góp phần đạt được độ chính xác chồng lớp (overlay accuracy) cao.

Nikon cho biết, cấu trúc chip 3D đang mở rộng từ CIS (cảm biến hình ảnh CMOS) sang các thiết bị logic và bộ nhớ. Trong ngành công nghiệp, nhu cầu nắm bắt chính xác độ biến dạng và độ lệch của wafer trong các quy trình phơi sáng và liên kết wafer-to-wafer đang ngày càng tăng cao.

Litho Booster 1000 đã tối ưu hóa lại mâm cặp wafer (wafer chuck), giúp giảm đáng kể sai số trong quá trình hút wafer, từ đó cải thiện độ chính xác đo căn chỉnh khoảng 35% so với các dòng máy hiện tại. Bằng cách nâng cao hiệu suất nguồn sáng của hệ thống đo lường, thiết bị giúp các dấu căn chỉnh và dấu chồng lớp dễ phát hiện hơn, từ đó thích ứng với nhiều điều kiện quy trình khác nhau. Ngoài ra, nhờ tăng tốc độ của robot vận chuyển wafer, lưu lượng xử lý của thiết bị tăng khoảng 10% so với các dòng máy hiện có và có khả năng vận chuyển các wafer có độ cong vênh lớn hơn.

Thông báo quảng cáo: Các liên kết chuyển hướng bên ngoài trong bài viết (bao gồm nhưng không giới hạn ở siêu liên kết, mã QR, mật khẩu, v.v.) được sử dụng để truyền tải thêm thông tin và tiết kiệm thời gian sàng lọc, kết quả chỉ mang tính chất tham khảo. Tất cả các bài viết trên IT đều bao gồm thông báo này.