Fujifilm khánh thành nhà máy mới tại Oita, tăng gấp 3 công suất sản xuất hóa chất làm sạch bán dẫn

Theo tin từ IT ngày 24 tháng 8, Fujifilm thông báo vào ngày 20 tháng này theo giờ địa phương rằng nhà máy vật liệu bán dẫn mới của hãng tại Oita, Kyushu đã chính thức hoàn thiện. Cơ sở sản xuất này sẽ chế tạo các loại dung dịch làm sạch dùng cho quy trình hậu xử lý CMP (Chemical Mechanical Polishing - Đánh bóng cơ hóa), giúp tăng gấp 3 lần năng lực sản xuất liên quan tại nhà máy Oita.

Dung dịch làm sạch hậu CMP được thiết kế để loại bỏ các hạt bụi, tạp chất kim loại và cặn hữu cơ, đồng thời bảo vệ bề mặt kim loại. Fujifilm sở hữu danh mục sản phẩm phong phú trong phân khúc này. Doanh nghiệp dự kiến doanh thu từ các dòng sản phẩm này sẽ tăng ít nhất gấp đôi vào năm 2030 so với năm 2024.

Vật liệu bán dẫn đã trở thành một trong những mảng kinh doanh cốt lõi thúc đẩy sự tăng trưởng của Fujifilm, với CAGR (tốc độ tăng trưởng kép hàng năm) trong giai đoạn tài chính 2021~2025 đạt hơn +20%. Doanh nghiệp đang tích cực mở rộng năng lực sản xuất các loại vật liệu như dung dịch mài CMP, dung dịch làm sạch hậu CMP, và các loại màng cách điện quang nhạy như Polyimide (PI) để đáp ứng nhu cầu ngày càng tăng của các nhà máy sản xuất tấm wafer trong kỷ nguyên AI.